» Wydawnictwa » Streszczenia » 2'2009

INŻYNIERIA POWIERZCHNI NR 2 – 2009

MAREK BETIUK1

PLAZMA NISKOCIŚNIENIOWA
W INŻYNIERII POWIERZCHNI

LOW-PRESSURE-PLASMA 
IN THE SURFACE ENGINEERING

STRESZCZENIE 

W artykule przedstawiono syntetyczny opis środowiska plazmy niskociśnieniowej generowanej w wyładowaniach elektrycznych stałoprądowych( DC) prądu zmiennego niskiej (AC), wysokiej częstotliwości (RF), oraz promieniowania mikrofalowego (MF) stosowanego do obróbki powierzchni metali, ceramiki, półprzewodników, tworzyw sztucznych. Zaprezentowano wybrane zastosowania technologii plazmy niskociśnieniowej w inżynierii powierzchni

Słowa kluczowe

Plazma niskociśnieniowa, plazma DC, plazma AC, plazma RF, plazma MF, azotowanie jarzeniowe, PA PVD-Arc, PA PVD-MS, PA PVD-BARE, powłoki PVD.

SUMMARY

Description of the environment low-pressure-plasma generated in electric discharges DC, the alternating current of low (AC) and high-frequency ( RF), and the microwave radiation (MF) applied to processing surface of metals, ceramics, semiconductors, plastics is presented in synthetic way. Applications of  technology of low-pressure-plasma in the surface engineering were selected and shown.

Key words

Low-pressure-plasma , plasma DC, plasma AC, plasma RF, plasma MF, glow-discharge nitriding, PA PVD- Arc, BYE-BYE PVD-MS,  PVD-BARE, PVD coatings.

 

 

1 Instytut Mechaniki Precyzyjnej, Warszawa