Laboratorium Technologii PVD

Gniazdo technologiczne WU-1B	Plamka katodowa na tytanie

Laboratorium Technologii PVD i Implantacji powstała w 1992 roku. Prowadzone w niej prace skoncentrowane są na syntezie nowych materiałów powłokowych zwiększających trwałość narzędzi i części maszyn.Laboratorium posiada stanowiska do osadzania powłok metodą PVD – IMP-Arc 6 i WU-1B oraz implantator jonów firmy Balzers MPB 200.

W laboratorium wytwarzane są klasyczne materiały powłokowe typu: TiN, TiCN, TiC, CrN oraz nowe o zwiększonej odporności na utlenianie w podwyższonych temperaturach i o niższych współczynnikach tarcia typu: TiAlCN, AlTiCN, AlTiC, TiAlC.

Elementy pokryte TiN

W laboratorium została opracowana technologia MO PA PVD-arc (Metaloorganic Plasma Assisted Physical Vapour Deposition), która umożliwia otrzymywanie powłok odpornych na utlenianie w podwyższonych temperaturach dzięki wbudowywaniu w podstawową strukturę TiC lub TiN atomów aluminium, które pochodzą bezpośrednio ze związków metaloorganicznych. Atomy te są odpowiedzialne za hamowanie procesu dyfuzji tlenu przez powłokę.

W celu uzyskania wysokiej przyczepności wytwarzanych w laboratorium powłok stanowisko technologiczne zostało wyposażone w dodatkowe autonomiczne źródło jonów gazowych, które umożliwia trawienie jonowe pokrywanego podłoża. W laboratorium opracowano nowoczesne stanowisko do pomiarów grubości powłok i cienkich warstw o nazwie handlowej „Kulotester”. Prowadzone w laboratorium prace badawcze, konstrukcyjne i usługowe rozwijają się dzięki współpracy z ośrodkami naukowymi Polski, jak również Białorusi, Niemiec, Rosji i Ukrainy.

Obszar merytorycznego działania Laboratorium PVD

Laboratorium technologii PVD prowadzi prace w czterech obszarach

1. Technologicznym związanym z

Kaufmanowskie źródło plazmy - jony gazowe	Elementy pokrywane TIN/TiCN

• syntezą warstw twardych w plazmie reaktywnej uzyskiwanej z substratów gazowych i metalicznych
• otrzymywaniem warstw techniką implantacji
• modyfikacją powierzchni laserem impulowym

2. Badawczym związanym z

• badaniem własności warstwy wierzchniej kształtowanej w technologiach CVD, PA PVD i Implantacji

3. Konstrukcyjnym gdzie prowadzone są prace studialne nad

• konstrukcją aparatu badawczego do ujawniania struktury metalograficznej warstw - "Kulotester"

• konstrukcją stanowiska do pomiaru mikrotwardości metodą mikrorysy
• konstrukcją stanowiska badawczego do pomiaru współczynnika tarcia warstw cienkich

4. Analiz studialnych i doradztwa technicznego w obszarze technologii syntezy warstw metodami CVD, PA PVD, Implantacji.

Dr inż. Marek Betiuk
Tel. 022 5602 916
E-mail: betiuk@imp.edu.pl

Mgr inż. Kryspin Burdyński
Tel. 022 5602 781
E-mail: kryspinb@imp.edu.pl